冰刻芯片技术取得重大突破,光刻机从此成为路人?

中国芯片可能迎来了历史性转折点!2020年12月4日,西湖大学纳米光子学实验室宣布其研发的冰刻技术取得了重大突破,一体自动化微米冰刻系统已经具备雏形,什么是冰刻?他和光刻有什么区别?又将如何助力中国芯片的发展呢?

冰刻机

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冰刻就是利用极紫外光在冰晶上进行微观雕刻,这项技术用于芯片制造,与目前的光刻技术相比拥有极大的优势,直白说,这又是一个可以弯道超车的点。

光刻机

要说清楚冰刻,首先得了解光刻的工作机制,芯片制造过程中,首先要将光刻胶均匀的涂抹在晶片表面,光刻胶是一种在紫外光照或者辐射下溶解度会发生变化的薄膜材料,只要用电子束在真空环境中将金属字写在光刻胶上,对应位置的光刻胶性质就会发生变化,在用化学试剂清洗掉剩下的光刻胶,一片镂空的光刻胶模具就做好了,接下来便是将金属填进镂空位置,使之“长”在镜片表面,最后再用化学试剂将所有光刻胶清洗干净,去除废料后只留下金属字,留下的这个金属字就是芯片的构造电路。

光刻胶

光刻胶是光刻技术中涉及到最关键的功能性化学材料,它直接影响了集成电路的性能、成品率以及可靠性,即使拥有最牛的UV光刻机,没有好的光刻胶,光刻精度还是无从谈起,那么光刻胶和冰刻又有什么关系呢?

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