光刻胶与冰刻技术有何关系?

光刻胶与冰刻技术有何关系?其实上期介绍完光刻胶大家就明白,咱们距离造出芯片不仅仅是一台光刻机的问题,光刻胶的形势虽然没有光刻机那么严峻,但是也处在美、日、韩三国的重重包围之下,全球市场份额都被几家巨头瓜分完毕,并且依靠着自己的技术壁垒赚取高价。

中国的光刻胶

中国的光刻胶起步较晚,属于后发梯队,其中比较低端的PCB光刻胶能够实现15%的国产率,终端的LCD光刻胶和高端的半导体光刻胶,中国的国产率都非常低。

什么是光刻胶?

评判光刻胶的性能指标叫做抗阻,外国产品的抗阻能达到10的15次方兆欧,国内目前只能达到10的10次方兆欧,差了将近10万倍,面对如此大的差距,追赶上不是一朝一夕能做到的,而冰刻技术的出现就可以完美绕开光刻胶这项技术。

冰刻技术特点

冰刻机

它的原理是通过水雾覆盖包裹芯片,在超低温下凝结后直接进行雕刻,雕刻完毕后再使用电子束照射,被打到的薄冰层将直接气化,冰刻技术的优点在于清洁和高效,传统光刻机生产芯片大致需要涂胶、曝光、化学显影、材料沉积、去胶剥离这五个流程,稍有不慎,就会毁了整个芯片,而冰刻技术可以大幅简化芯片加工过程,而且不需要清洗。

那么,攻克芯片冰刻技术的西湖大学,你知道它的来历吗?

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